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大型直飲水去離子水工藝設(shè)備根據(jù)項(xiàng)目原水特征，結(jié)合已有的經(jīng)驗(yàn)，在確保出水達(dá)標(biāo)的前提下，采用成熟、可靠、技術(shù)先進(jìn)的處理工藝。系統(tǒng)設(shè)備全面采用實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化和系統(tǒng)化的設(shè)計(jì)方式，以便快速安裝和以后系統(tǒng)維護(hù)。

工業(yè)去離子水設(shè)備EDI系統(tǒng)與相當(dāng)處理水量的混床相比，有較小的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場(chǎng)地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù)。

全套去離子水處理系統(tǒng)開(kāi)機(jī)后設(shè)備實(shí)現(xiàn)膜自動(dòng)沖洗功能，沖洗時(shí)間 2-10 分鐘 可調(diào)。設(shè)備有廢水回流裝置，可對(duì)水進(jìn)行二次利用，提高水的 利用率，節(jié)省水費(fèi)。

電鍍工業(yè)去離子水處理設(shè)備主要采用RO反滲透的方法制取。應(yīng)用離子交換樹(shù)脂去除水中的陰離子和陽(yáng)離子，但水中仍然存在可溶性的有機(jī)物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放后也容易引起細(xì)菌的繁殖。

工藝去離子水設(shè)備主要用途： 1、電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器 件沖洗水。2、制行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備 清洗等。3、化工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等。